特許
J-GLOBAL ID:200903060505447903

断熱構造を有する水素ガス生成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-356015
公開番号(公開出願番号):特開2002-160903
出願日: 2000年11月22日
公開日(公表日): 2002年06月04日
要約:
【要約】【課題】 高温部を有する水素ガス生成装置を容易かつ低コストで断熱する技術を提供する。【解決手段】 所定の原料から水素ガスを生成する水素ガス生成装置において、原料から化学反応により水素ガスを生成する化学反応部と、原料を化学反応部に供給するための原料供給部と、化学反応部で生成された水素ガスを排出するための水素ガス排出部と、化学反応部を外部から熱的に隔離する断熱構造とを備える。断熱構造は、気密性のケースで化学反応部を被覆し、化学反応部とケースとの接触を防止するための耐熱性および断熱性を有する粒子をケースに充填し、ケース内部を真空引きすることによって実現する。
請求項(抜粋):
所定の原料から水素ガスを生成する水素ガス生成装置であって、前記原料から化学反応により水素ガスを生成する化学反応部と、前記原料を前記化学反応部に供給するための原料供給部と、前記化学反応部で生成された水素ガスを排出するための水素ガス排出部と、前記化学反応部を外部から熱的に隔離する断熱構造と、を備え、前記断熱構造は、前記化学反応部を被覆するための気密性のケースと、前記ケースに充填されるとともに前記化学反応部と前記ケースとの接触を防止するための耐熱性および断熱性を有する粒子と、を備え、前記ケース内部は真空状態に保たれている、水素ガス生成装置。
IPC (4件):
C01B 3/32 ,  C01B 3/38 ,  C01B 3/48 ,  H01M 8/06
FI (4件):
C01B 3/32 A ,  C01B 3/38 ,  C01B 3/48 ,  H01M 8/06 G
Fターム (24件):
4G040EA02 ,  4G040EA03 ,  4G040EA06 ,  4G040EA07 ,  4G040EB03 ,  4G040EB12 ,  4G040EB31 ,  4G040EB32 ,  4G040EB44 ,  4G040EB46 ,  4G040EC03 ,  4G140EA02 ,  4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EA07 ,  4G140EB03 ,  4G140EB12 ,  4G140EB31 ,  4G140EB32 ,  4G140EB44 ,  4G140EB46 ,  4G140EC03 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01

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