特許

J-GLOBAL ID：200903060512248479

逆浸透膜モジュールの洗浄方法

発明者： 廣 敦 ,  廣瀬 雅彦
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
代理人 (1件)： 矢野 正行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-270553
公開番号（公開出願番号）：特開2000-079328
出願日： 1998年09月07日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：

【要約】【課題】低コストで効率的に膜を洗浄する方法を提供することにある。【解決手段】逆浸透膜に溶液を浸透圧以上の加圧下で供給することにより、溶液中の溶質と溶媒を分離する逆浸透膜モジュールにおいて、膜を洗浄する時に、無加圧から浸透圧未満の圧力範囲で膜モジュールに溶液を供給し続けるとともに透過液に洗浄剤を加え、サックバック現象を利用して膜面上の汚染物質を除去することを特徴とする逆浸透膜モジュールの洗浄方法。

請求項（抜粋）：

逆浸透膜に溶液を浸透圧以上の加圧下で供給することにより、溶液中の溶質と溶媒を分離する逆浸透膜モジュールにおいて、膜を洗浄する時に、無加圧から浸透圧未満の圧力範囲で溶液を供給し続けるとともに透過液に洗浄剤を加えて膜面上の汚染物質を除去することを特徴とする逆浸透膜モジュールの洗浄方法。

IPC (3件)：

B01D 61/02 510 ,  B01D 65/06 ,  C02F 1/44

FI (4件)：

B01D 61/02 510 ,  B01D 65/06 ,  C02F 1/44 G ,  C02F 1/44 J

Fターム (15件)：

4D006GA03 ,  4D006HA61 ,  4D006KC04 ,  4D006KC16 ,  4D006KE06R ,  4D006KE22Q ,  4D006KE24Q ,  4D006KE28Q ,  4D006MA06 ,  4D006MC54X ,  4D006PA02 ,  4D006PB03 ,  4D006PB22 ,  4D006PB23 ,  4D006PB24