特許
J-GLOBAL ID:200903060518363539
皮膚及び/又は毛髪を処理するための化粧方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
曾我 道照
, 曾我 道治
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
, 醍醐 美知子
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-526351
公開番号(公開出願番号):特表2004-509861
出願日: 2000年09月13日
公開日(公表日): 2004年04月02日
要約:
1以上のサイクルを含む処理レジメンを含む、皮膚及び/又は毛髪を処理するための化粧方法であって、一サイクルが、(a)第1段階として、安定に配合された生物学的活性酵素を含む1以上の単位用量の主要局所用化粧品組成物を、1〜365日間与えることと、その後、(b)第2段階として、1以上の単位用量のプラセボ局所用化粧品組成物を、1〜365日間与えることとを含む化粧方法を提供する。この化粧処理方法は、製造業者が消費者の生物学的活性化合物への暴露レベルを制御できるようにし、また柔軟性及び平滑性利益を与えるために皮膚又は毛髪を化粧的に処理するのにも有用である。
請求項(抜粋):
皮膚及び/又は毛髪を処理するための化粧方法であって、1以上のサイクルを含む処理レジメンを含み、一サイクルが、
(a)第1段階として、安定に配合された生物学的活性酵素を含む1以上の単位用量の主要な局所用化粧品組成物を、1〜365日間与えることと、その後、
(b)第2段階として、1以上の単位用量のプラセボ局所用化粧品組成物を、1〜365日間与えることと
を含む化粧方法。
IPC (4件):
A61K7/48
, A45D44/00
, A61K7/00
, A61K7/06
FI (8件):
A61K7/48
, A45D44/00 A
, A61K7/00 B
, A61K7/00 C
, A61K7/00 H
, A61K7/00 J
, A61K7/00 N
, A61K7/06
Fターム (43件):
4C083AB032
, 4C083AB271
, 4C083AC012
, 4C083AC072
, 4C083AC111
, 4C083AC121
, 4C083AC122
, 4C083AC152
, 4C083AC171
, 4C083AC182
, 4C083AC242
, 4C083AC352
, 4C083AC402
, 4C083AC442
, 4C083AC482
, 4C083AC532
, 4C083AC641
, 4C083AC642
, 4C083AC852
, 4C083AD041
, 4C083AD072
, 4C083AD152
, 4C083AD162
, 4C083AD471
, 4C083AD472
, 4C083AD621
, 4C083AD631
, 4C083AD662
, 4C083BB51
, 4C083CC02
, 4C083CC04
, 4C083CC05
, 4C083CC31
, 4C083CC33
, 4C083CC37
, 4C083DD23
, 4C083DD27
, 4C083DD31
, 4C083EE10
, 4C083EE12
, 4C083EE13
, 4C083EE28
, 4C083EE29
引用特許:
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