特許

J-GLOBAL ID：200903060523834876

基板処理装置

発明者： 小山 康文 ,  亀井 謙治 ,  北本 徹 ,  枦木 憲二 ,  山本 聡 ,  大仁 紀明
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-243213
公開番号（公開出願番号）：特開2004-087570
出願日： 2002年08月23日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：

【課題】スループットを向上することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】この基板処理装置は、処理部と単一の主搬送機構とを含んでそれぞれが構成されている反射防止膜用処理ブロック2とレジスト膜用処理ブロック3と現像処理ブロック4とを並設してある。ブロック2,3,4ごとに、主搬送機構10A〜10Cがブロック内の基板搬送を行うとともに、各ブロック間の基板の受け渡しは、区別された入口基板載置部と出口基板載置部(PASS1〜PASS8)を介して行うので、基板処理装置のスループットが向上する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板に所要の処理を行う処理部と、前記処理部に対して基板の受け渡しをする単一の主搬送機構とを含んで単一の処理ブロックを構成し、前記処理ブロックを並設して構成される基板処理装置であって、 前記各処理ブロックには、その処理ブロックに基板を受け入れるために基板を載置する入口基板載置部と、その処理ブロックから基板を払い出すために基板を載置する出口基板載置部とが区別して設けられており、 前記各処理ブロックの主搬送機構は、前記入口基板載置部と前記出口基板載置部とを介して基板の受け渡しを行うことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L21/68 ,  B65G49/07 ,  H01L21/027

FI (3件)：

H01L21/68 A ,  B65G49/07 C ,  H01L21/30 562

Fターム (39件)：

5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA06 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA59 ,  5F031JA02 ,  5F031JA22 ,  5F031JA40 ,  5F031LA13 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA30 ,  5F031NA09 ,  5F031PA03 ,  5F031PA10 ,  5F031PA11 ,  5F046AA17 ,  5F046AA28 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046CD06 ,  5F046DA29 ,  5F046JA04 ,  5F046KA01 ,  5F046LA01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 処理時間の設定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-141558   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-220227   出願人：東京エレクトロン株式会社