特許
J-GLOBAL ID：200903060533972592
フォトレジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-339077
公開番号（公開出願番号）：特開平5-173325
出願日： 1991年12月20日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：
【要約】【構成】ベース樹脂、感放射線化合物及び溶媒を含有するフォトレジスト組成物において、溶媒として3-エトキンプロピオン酸メチルを用いることを特徴とするフォトレジスト組成物。【効果】本発明のフォトレジスト組成物は溶媒として特定の化合物を用いることにより、塗布性及び耐熱性が良好で、温度変動による塗布膜厚の変動も小さく、従来と同様のプロセス条件にて良好な性感が得られ、実用上極めて有用である。
請求項（抜粋）：
ベース樹脂、感放射線化合物及び溶媒を含有するフォトレジスト組成物において、溶媒として3-エトキシプロピオン酸メチルを用いることを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (2件)：
引用特許：
審査官引用 (2件)
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特開昭62-123444
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特開昭63-220139
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