特許
J-GLOBAL ID：200903060537008561
磁気記録媒体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-198552
公開番号（公開出願番号）：特開平9-050626
出願日： 1995年08月03日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：
【要約】【目的】 高密度磁気記録が可能な、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体において、製造工程において発生する保護膜のミクロ的な不均一性の問題を解決し、耐久性、耐蝕性を向上させ、実用信頼性の高い磁気記録媒体を得る製造方法の提供を目的とする。【構成】 高分子フィルム1上に強磁性金属薄膜からなる磁気記録層2、その上に硬質炭素膜からなる保護膜層3を有する磁気記録媒体において、保護膜形成面と反対側表面の表面抵抗が1×108 Ω/□以上である磁気記録媒体の原反を用い、または、保護膜形成面と反対側表面の表面粗さが30nm以下である磁気記録媒体の原反を用い、キャンへの密着度を確保し磁気記録媒体原反が受ける熱負荷を軽減し、ミクロ的にも均質な硬質炭素膜からなる保護膜を有する磁気記録媒体が得られる。
請求項（抜粋）：
高分子フィルム上に強磁性金属薄膜からなる磁気記録層、前記強磁性金属薄膜上に硬質炭素膜からなる保護膜層を形成する製造工程において、保護膜形成面と反対側表面の表面抵抗が1×108 Ω/□以上である磁気記録媒体の原反を用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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