特許
J-GLOBAL ID:200903060550362102

超純水製造装置の殺菌方法および超純水製造装置の殺菌装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 山崎 宏 ,  前田 厚司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-266630
公開番号(公開出願番号):特開2007-075328
出願日: 2005年09月14日
公開日(公表日): 2007年03月29日
要約:
【課題】 ランニングコストが低くて、短時間で殺菌処理ができる超純水製造装置の殺菌方法および殺菌装置を提供する。 【解決手段】 この超純水製造装置の殺菌装置によれば、二次純水タンク1内に窒素マイクロナノバブル発生機3が設置されている。殺菌が必要な時は、二次純水タンク1内で窒素マイクロナノバブル発生機3が窒素マイクロナノバブルを発生させて、この窒素マイクロナノバブルにより過酸化水素等の薬品を使用することなく、二次純水タンク1から殺菌することができる。すなわち、二次純水製造装置の最初の設備が二次純水タンク1であるので、最初の設備から殺菌することができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
超純水製造装置を構成する一次純水製造装置と二次純水製造装置とのうちの上記二次純水製造装置が有する超純水配管に、マイクロナノバブルを含有する水を流して、上記二次純水製造装置を殺菌することを特徴とする超純水製造装置の殺菌方法。
IPC (7件):
A61L 2/02 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/42 ,  B01D 61/14 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/32 ,  C02F 9/00
FI (25件):
A61L2/02 Z ,  C02F1/50 510B ,  C02F1/50 520B ,  C02F1/50 531R ,  C02F1/50 531Z ,  C02F1/50 540A ,  C02F1/50 550C ,  C02F1/50 550H ,  C02F1/50 550L ,  C02F1/50 560A ,  C02F1/50 560C ,  C02F1/50 560D ,  C02F1/50 560E ,  C02F1/42 A ,  B01D61/14 ,  C02F1/44 A ,  C02F1/44 J ,  C02F1/50 510A ,  C02F1/32 ,  C02F9/00 502A ,  C02F9/00 502G ,  C02F9/00 502J ,  C02F9/00 502N ,  C02F9/00 503B ,  C02F9/00 504B
Fターム (24件):
4C058AA24 ,  4C058BB02 ,  4C058BB07 ,  4C058BB09 ,  4C058JJ14 ,  4D006GA06 ,  4D006KC21 ,  4D006KD06 ,  4D006KD21 ,  4D006PA10 ,  4D006PB05 ,  4D006PB06 ,  4D006PC04 ,  4D025AA04 ,  4D025DA04 ,  4D025DA05 ,  4D025DA10 ,  4D037AA02 ,  4D037AA03 ,  4D037AA05 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18 ,  4D037CA03 ,  4D037CA15
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)
  • 洗浄方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-343865   出願人:栗田工業株式会社
  • ナノバブルの利用方法及び装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-288963   出願人:独立行政法人産業技術総合研究所

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