特許

J-GLOBAL ID：200903060561373645

エッチング方法

発明者： 六反 豊弘 ,  阿部 敬浩 ,  山本 直広
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立笠戸エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-249586
公開番号（公開出願番号）：特開平6-104217
出願日： 1992年09月18日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】アルミ合金配線膜に積層化されたキャップメタル膜(TiN膜)5のエッチングにおいて、還元性フッ素化合物ガスとハロゲンガスの混合ガスを使用しているため、キャップメタル膜(TiN膜)5がエッチング終了となり、下地のAl-Si-Cu膜4のエッチングが開始した時間、Al-Si-Cu膜4表面のAlと還元性フッ素化合物(SF6)のF成分で反応(2Al+SF6→2AlF3+2S)してフッ化アルミニウム4′を生成してエッチングをストップすることができる。【効果】前記還元性フッ素化合物ガスとハロゲンガスを混合したガスを用いることで、下成分の作用によりアルミ合金膜のエッチング進行をストップさせ、キップメタル膜とアルミ配線との界面においてサイドエッチングを防止することができる。

請求項（抜粋）：

エッチング用処理ガスとして、還元性フッ素化合物ガスとハロゲンガスを混合したガスを用い、アルミ合金配線膜に積層化されたキャップメタル膜(TiN膜)をエッチング処理することを特徴とするエッチング方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-087332
  
• 特開平3-044030
  
• 特開平4-106921