特許
J-GLOBAL ID:200903060567776202

スチームと洗浄剤による汚染物質除去方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-512130
公開番号(公開出願番号):特表2003-505237
出願日: 2000年07月21日
公開日(公表日): 2003年02月12日
要約:
【要約】本発明は、スチームと洗浄剤により汚染物質を除去するための方法および装置に関する。洗浄剤は計量しながらスチームに注入されて霧化され、形成された混合体は、ガス状態で、除去すべき汚染物質に対して塗工される。このようなガス状混合体は、スチームと液体洗浄剤の液滴状混合体よりも高い活性をもつ。本発明による方法を実施するための装置、特に、低圧スチームクリーナもまた記載されている。
請求項(抜粋):
洗浄剤を供給しこれをスチームと混合する工程と、除去すべき汚染物質にこの混合体を接触させる工程とを含む、スチームと洗浄剤により汚染物質を除去するための方法において、前記洗浄剤を、前記スチーム内に注入し、ガス状態において、除去すべき汚染物質に接触させることを特徴とする方法。
IPC (3件):
B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  E01H 15/00
FI (3件):
B08B 3/02 F ,  B08B 3/08 A ,  E01H 15/00
Fターム (10件):
3B201AA46 ,  3B201AB54 ,  3B201BB22 ,  3B201BB72 ,  3B201BB77 ,  3B201BB82 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201BB95 ,  3B201CD22

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