特許

J-GLOBAL ID：200903060567804281

感光性樹脂組成物、その組成物を用いたパターン形成方法、および、電子装置の製造方法

発明者： 前川 康成 ,  三輪 崇夫 ,  上野 巧 ,  岡部 義昭
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-263278
公開番号（公開出願番号）：特開平11-102065
出願日： 1997年09月29日
公開日（公表日）： 1999年04月13日
要約：

【要約】【課題】ArFエキシマレーザの波長193nmを含む遠紫外線領域で透明かつドライエッチ耐性の高い化学構造を持ちながら、膨潤のない解像性能の優れたパターン形成方法を提供することにある。【解決手段】脂環式炭化水素構造およびアルカリ現像液で加水分解する有機基を有するカルボキシルポリマーと、尿素基またはアミノピラジン基を有する酸分解性物質または感放射線物質を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物を用いる。

請求項（抜粋）：

脂環式炭化水素構造を有するカルボキシルポリマーと、放射線で酸を発生する物質と、(化1)【化1】(式中、A1 は周期律表の第VI族原子、R1 またはR2 はそれぞれ、炭素数3から50の有機基で、少なくとも一方に、酸で脱保護される水酸基、または/および、カルボキシル基を有する)で表される物質、または/および、(化2)【化2】(式中、A2 は酸素原子,硫黄原子または窒素原子、R3 またはR4 はそれぞれ、炭素数3から40の有機基で、少なくとも一方に、酸で脱保護される水酸基、または/および、カルボキシル基を有する)で表される物質を含むことを特徴とする感放射線樹脂組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

FI (5件)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/312 D ,  H01L 21/30 502 R