特許

J-GLOBAL ID：200903060570278574

耐溶出性アニオン吸着膜の製造方法およびその膜

発明者： 堀 隆博 ,  松田 孝
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-189926
公開番号（公開出願番号）：特開平7-041574
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年02月10日
要約：

【要約】【目的】 耐溶出性に優れたアニオン吸着膜を提供する。【構成】 三次元網目構造を有し、平均孔径が、0.01〜5μm、空孔率が20〜90%である多孔性基材膜に電離性の放射線を照射し、クロロメチルスチレンおよび架橋剤をグラフト共重合させ、さらに該グラフト共重合膜に4級アミンを導入する。【効果】 半導体産業などにおける超純水製造システムにおいて、特にTOC濃度の低い超純水を提供することが可能になる。

請求項（抜粋）：

多孔膜に電離性の放射線を照射し、該多孔膜にクロロメチルスチレンおよび架橋剤をグラフト共重合させた後に該グラフト共重合膜に4級アミンを導入することを特徴とするアニオン吸着膜の製造方法。

IPC (2件)：

C08J 5/22 104 ,  B01J 47/12

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭60-238328
  

審査官引用 (2件)

• 特開昭60-238328
  
• 特開昭60-238328