特許

J-GLOBAL ID：200903060586022073

含フッ素有機ケイ素化合物およびその製造方法

発明者： 小林 秀樹
出願人/特許権者： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-096592
公開番号（公開出願番号）：特開平6-279460
出願日： 1993年03月31日
公開日（公表日）： 1994年10月04日
要約：

【要約】【目的】 分子中に含フッ素有機基と少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有する含フッ素有機ケイ素化合物およびその製造方法を提供する。【構成】 一般式:【化1】(式中、R1はアルケニル基を除く一価炭化水素基であり、R2は二価有機基であり、aは2または3であり、mは4〜12の数である。)で表される含フッ素有機ケイ素化合物、および(A)一般式:【化2】(式中、R1はアルケニル基を除く一価炭化水素基であり、Xはハロゲン原子であり、aは2または3である。)で表される有機ケイ素化合物と(B)一般式:CmF(2m+1)-R3 (式中、R3は脂肪族不飽和炭化水素結合を有する一価有機基であり、mは4〜12の数である。)で表される含フッ素有機化合物を、(C)ヒドロシリル化反応用触媒の存在下で付加反応させて、得られた含フッ素有機ケイ素化合物を、(E)還元剤により還元することを特徴とする含フッ素有機ケイ素化合物の製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式:【化1】(式中、R1はアルケニル基を除く一価炭化水素基であり、R2は二価有機基であり、aは2または3であり、mは4〜12の数である。)で表される含フッ素有機ケイ素化合物。

IPC (4件)：

C07F 7/12 ,  B01J 23/42 ,  B01J 23/44 ,  B01J 23/46 311