特許

J-GLOBAL ID：200903060606356291

高純度1,3-シクロヘキサジエンの製造法

発明者： 石田 浩 ,  小野 満司
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-304417
公開番号（公開出願番号）：特開平7-157445
出願日： 1993年12月03日
公開日（公表日）： 1995年06月20日
要約：

【要約】【目的】 ポリマー原料として有用な1,3-シクロヘキサジエンを高純度で製造する事を目的とする。【構成】 高純度1,3-シクロヘキサジエンの製造方法に於いて、次の1)〜3)の特徴を有する。1)出発原料がシクロヘキセン、2ーシクロヘキセンー1ーオール、シクロヘキセンオキシド、2ーシクロヘキセンー1ーオンを含む混合物である。2)上記混合物からシクロヘキセンを分離除去する。3)2)の混合物を気相に於いて脱水反応に供する。【効果】 簡便な方法で高純度1,3-シクロヘキサジエンが得られる。

請求項（抜粋）：

シクロヘキセン、2ーシクロヘキセンー1ーオール、シクロヘキセンオキシド、2ーシクロヘキセンー1ーオンを含む混合物から1,3-シクロヘキサジエンを製造するに際し、上記混合物からシクロヘキセンを分離除去して、2ーシクロヘキセンー1ーオール、シクロヘキセンオキシド、2ーシクロヘキセンー1ーオンを含む混合物を得て、これを気相に於いて脱水反応に供する事を特徴とする高純度1,3-シクロヘキサジエンの製造法。

IPC (6件)：

C07C 13/23 ,  B01J 27/18 ,  C07C 1/207 ,  C07C 1/24 ,  C07C 1/247 ,  C07B 61/00 300