特許
J-GLOBAL ID:200903060606356291
高純度1,3-シクロヘキサジエンの製造法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-304417
公開番号(公開出願番号):特開平7-157445
出願日: 1993年12月03日
公開日(公表日): 1995年06月20日
要約:
【要約】【目的】 ポリマー原料として有用な1,3-シクロヘキサジエンを高純度で製造する事を目的とする。【構成】 高純度1,3-シクロヘキサジエンの製造方法に於いて、次の1)〜3)の特徴を有する。1)出発原料がシクロヘキセン、2ーシクロヘキセンー1ーオール、シクロヘキセンオキシド、2ーシクロヘキセンー1ーオンを含む混合物である。2)上記混合物からシクロヘキセンを分離除去する。3)2)の混合物を気相に於いて脱水反応に供する。【効果】 簡便な方法で高純度1,3-シクロヘキサジエンが得られる。
請求項(抜粋):
シクロヘキセン、2ーシクロヘキセンー1ーオール、シクロヘキセンオキシド、2ーシクロヘキセンー1ーオンを含む混合物から1,3-シクロヘキサジエンを製造するに際し、上記混合物からシクロヘキセンを分離除去して、2ーシクロヘキセンー1ーオール、シクロヘキセンオキシド、2ーシクロヘキセンー1ーオンを含む混合物を得て、これを気相に於いて脱水反応に供する事を特徴とする高純度1,3-シクロヘキサジエンの製造法。
IPC (6件):
C07C 13/23
, B01J 27/18
, C07C 1/207
, C07C 1/24
, C07C 1/247
, C07B 61/00 300
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