特許

J-GLOBAL ID：200903060617266456

液処理方法及びその装置

発明者： 川崎 哲 ,  元田 公男
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-249227
公開番号（公開出願番号）：特開平10-076205
出願日： 1996年08月30日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：

【要約】【課題】 待機位置にて整えたノズル先端から出る処理液の調子を保持しつつ、ノズルを待機位置から使用位置に移行させることを可能とする。【解決手段】 現像液供給ノズル3を使用するに際し、待機位置aにてノズル先端を回転するローラ5の周面に近接させてノズル先端から出る現像液4の調子を整えた後、ノズルの待機位置aと使用位置bとの間に設けたダミー板31等の除去手段30にノズル先端を近接させつつ、ノズル3を待機位置aから使用位置bに移し、ノズル3とウエハ2を相対的に移動させてウエハ2上に液膜を形成する。

請求項（抜粋）：

処理液供給用のノズルを使用するに際し、待機位置にてノズル先端を回転するローラの周面に近接してノズル先端から出る処理液の調子を整えた後、ノズルの待機位置と使用位置との間に設けた除去手段にノズル先端を近接しつつノズルを待機位置から使用位置に移し、ノズルと被処理体を相対的に移動させて被処理体上に処理液の膜を形成することを特徴とする液処理方法。