特許

J-GLOBAL ID：200903060619491570

エッチング方法

発明者： 柿木 正美
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-221798
公開番号（公開出願番号）：特開2000-054163
出願日： 1998年08月05日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：

【要約】【課題】 エッチング残りが発生しにくいエッチング方法を提供する。【解決手段】 モリブデン層17の上面に、レジスト32を形成する。エッチング溶液を30%ないし50%に希釈しモリブデン層17をエッチングしない程度にした希釈エッチング溶液でモリブデン層17の表面を60秒以上の時間をかけて洗浄する。モリブデン層17の表面の酸化膜42を除去し、この後、通常のウエットエッチングにより、異種の金属が接触した状態でエッチング溶液中に浸すと電池効果によリモリブデンより卑であるアルミニウムの方が選択的にエッチングする。希釈エッチング溶液で洗浄することにより、モリブデンが均一にエッチングされて島状のエッチング残りが発生しない。

請求項（抜粋）：

積層された複数の異種金属をエッチングするエッチング方法において、エッチング前にエッチング液を希釈した希釈エッチング液を用いてエッチング対象の部分を洗浄することを特徴とするエッチング方法。

IPC (5件)：

C23F 1/00 101 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1343 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

C23F 1/00 101 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1343 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/306 F

Fターム (26件)：

2H088FA18 ,  2H088FA21 ,  2H088HA02 ,  2H088HA04 ,  2H088HA08 ,  2H088MA20 ,  2H092HA04 ,  2H092HA06 ,  2H092JA46 ,  2H092JA47 ,  2H092KA04 ,  2H092KA05 ,  2H092KA12 ,  2H092MA05 ,  2H092MA17 ,  2H092MA18 ,  2H092NA29 ,  4K057WA11 ,  4K057WB05 ,  4K057WB08 ,  4K057WB15 ,  4K057WC10 ,  4K057WN01 ,  5F043AA27 ,  5F043DD02 ,  5F043GG04