特許
J-GLOBAL ID：200903060619932224
プラズマ加工装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
最上 正太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-100797
公開番号（公開出願番号）：特開平5-299378
出願日： 1992年04月21日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：
【要約】【目的】 非平衡プラズマを効果的に発生させ、加工効率の優れたプラズマ加工装置を提供する。【構成】 プラズマを利用して加工を行なう装置に於いて、反応ガス媒体の圧力を周期的若しくは振動的に増減、変動させる手段(7) を設け、非平衡プラズマを発生させるよう構成したことを特徴とする。プラズマ発生用電源としてパルス電源(6) を用い、該パルス電源と上記反応ガス媒体の圧力変動手段(7) とを同期制御するよう構成することが推奨される。【効果】 反応ガス媒体圧力を振動的に変化させ、非平衡プラズマを発生させるようにしたものであるから、極めて、多くのエネルギーステートを持つ多重エネルギーのプラズマを高密度に形成でき、活性度が高く、これによるプラズマ反応が多重のエネルギーレベルで多重反応として行なわれ、加工速度が向上し、エッチングや膜形成加工を高効率で行なうことができる。
請求項（抜粋）：
プラズマを利用して加工を行なう装置に於いて、反応ガス媒体の圧力を周期的若しくは振動的に増減、変動させる手段を用い、非平衡プラズマを発生させるよう構成したことを特徴とするプラズマ加工装置。
IPC (4件)：
H01L 21/302
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
