特許
J-GLOBAL ID：200903060621404502
半導体製造装置用の制御装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
油井 透 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-127558
公開番号（公開出願番号）：特開平10-321491
出願日： 1997年05月16日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：
【要約】【課題】 次プロセスのためのウェーハの準備時期やウェーハが準備されたかどうかの確認が一目でできるようにする。【解決手段】 表示部に表示されるレシピ残り時間と、あらかじめ設定されレシピ処理が終了するまでに次のウェーハを準備できる期間であるレシピアレート設定時間とを比較する(ステップ103)。レシピ残り時間がレシピアレート設定時間以下になったとき、表示部の赤色リバースでレシピ残り時間を表示させることにより、プロセス終了前に、次のウェーハの準備時期を知らせる(ステップ112)。赤色リバース表示でウェーハ準備時期が来たことを知ったオペレータは、ウェーハ準備を完了させた後、レシピ残り時間表示部をクリックする。クリック後は、青色リバースでレシピ残り時間表示させることにより、ウェーハ準備が完了したことを他のオペレータに知らせる(ステップ104、115)。
請求項（抜粋）：
レシピに基づいて基板を処理する半導体製造装置を制御する半導体製造装置用の制御装置において、レシピ残り時間を表示する表示部と、レシピ処理が終了するまでに次の基板を準備できる先行準備期間としてのレシピアレート時間をあらかじめ設定する設定手段と、上記レシピアレート設定時間とレシピ残り時間とを比較する比較手段と、比較によりレシピ残り時間が上記レシピアレート設定時間以下になった時、オペレータに対し次のプロセス処理を行うための基板の準備時期が来たことを知らせる基板準備報知手段とを備えたことを特徴とする半導体製造装置用の制御装置。
IPC (2件)：
H01L 21/02
, G05B 23/02 301
H01L 21/02 Z
, G05B 23/02 301 N
