特許

J-GLOBAL ID：200903060625978970

ガス噴射ヘッド

発明者： 堀江 邦明 ,  中田 勉 ,  鈴木 秀直 ,  荒木 裕二
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-052869
公開番号（公開出願番号）：特開2000-252270
出願日： 1999年03月01日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：

【要約】【課題】 原料ガスを付着防止ガスと分離した状態で基板に向けて噴射することができ、しかも原料ガスの副生成物の付着を極力防止できるガス噴射ヘッドを提供する【解決手段】 成膜室10内に配置された基板Wに向けて成膜用の原料ガスを噴射するガス噴射ヘッド20において、前記基板に対向して配置されたノズル盤60を有し、前記ノズル盤には、原料ガスを前記基板に噴射する原料ガス噴射ノズル88と、付着防止ガスを前記ノズル盤の表面に沿って流す付着防止ガス噴射ノズル78とが設けられている。

請求項（抜粋）：

成膜室内に配置された基板に向けて成膜用の原料ガスを噴射するガス噴射ヘッドにおいて、前記基板に対向して配置されたノズル盤を有し、前記ノズル盤には、原料ガスを前記基板に噴射する原料ガス噴射ノズルと、付着防止ガスを前記ノズル盤の表面に沿って流す付着防止ガス噴射ノズルとが設けられていることを特徴とするガス噴射ヘッド。

IPC (2件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/455

FI (2件)：

H01L 21/31 B ,  C23C 16/44 D

Fターム (20件)：

4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA42 ,  4K030BA46 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030KA25 ,  4K030KA41 ,  4K030LA01 ,  4K030LA15 ,  5F045AB40 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045BB15 ,  5F045DP03 ,  5F045EE14 ,  5F045EE20 ,  5F045EF05 ,  5F045EF13 ,  5F045EJ05