特許

J-GLOBAL ID：200903060656848454

パターン検査装置

発明者： 中島 直人 ,  玉田 厚
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-152303
公開番号（公開出願番号）：特開2002-340815
出願日： 2001年05月22日
公開日（公表日）： 2002年11月27日
要約：

【要約】【課題】 照明光を比較的高輝度に維持しつつ、輝度ムラを抑制するパターン検査装置を提供する。【解決手段】 パターン検査装置の照明光学系20Aは、オプティカルファイバーアレイ21の出射面Fから出射されるインコヒーレント光を、シリンドリカルレンズ22などの非軸対象結像要素を用いて、プリント基板7の表面に形成される細長形状の照明領域Rに対して導く。照明光学系20Aは、照明領域Rの長手方向(X方向)における照明方式がケーラー照明となるように構成されており、照明領域Rの短手方向(Y方向)における照明方式がクリティカル照明となるように構成されている。このような照明光によって照明されたプリント基板7の表面の状態を、X方向に細長いCCDリニアセンサ12を用いて撮像する。

請求項（抜粋）：

被検査物の表面に形成されたパターンを検査するパターン検査装置であって、光源から出射されるインコヒーレント光を、非軸対象結像要素を用いて、被検査物の表面に形成される細長形状の照明領域に対して導く照明光学系と、前記照明光学系によって照明された被検査物の表面を撮像する撮像手段と、前記撮像手段によって撮像された画像に基づいてパターン検査を行う検査手段と、を備え、前記照明光学系は、前記照明領域の長手方向における照明方式がケーラー照明となるように構成されていることを特徴とするパターン検査装置。

IPC (4件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/24 ,  G01N 21/84 ,  H05K 3/00

FI (4件)：

G01N 21/956 B ,  G01N 21/84 E ,  H05K 3/00 Q ,  G01B 11/24 K

Fターム (24件)：

2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065CC01 ,  2F065DD04 ,  2F065FF04 ,  2F065GG03 ,  2F065GG14 ,  2F065HH05 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL03 ,  2F065LL08 ,  2F065LL22 ,  2F065LL30 ,  2F065LL59 ,  2G051AA65 ,  2G051AB07 ,  2G051AB20 ,  2G051AC21 ,  2G051BA01 ,  2G051BB09 ,  2G051BB17 ,  2G051CA03 ,  2G051CA07