特許

J-GLOBAL ID：200903060685090307

プラズマ処理装置

発明者： 奥村 智洋 ,  原口 秀夫 ,  中山 一郎
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-297994
公開番号（公開出願番号）：特開平9-139298
出願日： 1995年11月16日
公開日（公表日）： 1997年05月27日
要約：

【要約】【目的】 放電コイルを安定的に配設するとともに、大気中での異常放電の発生がないプラズマ処理装置を提供する。【構成】 真空容器1内に適当なガスを導入しつつ排気を行い、真空容器1内を適当な圧力に保ちながら、放電コイル用高周波電源2により平板状渦形放電コイル4に高周波電圧を印加することにより、誘電板3を介して真空容器1内に高周波磁界を発生させ、高周波磁界による誘導電界で電子を加速し、真空容器1内にプラズマを発生させて、基板6を処理するプラズマ処理方法及び装置において、誘電板3上に放電コイル固定用溝9を設けたセラミック板8を設け、このセラミック板8上に平板状渦形放電コイル4を設けた。

請求項（抜粋）：

高周波電源と平面状渦形放電コイルとを備え、高周波電源により放電コイルに高周波電圧を印加することにより、誘電板を介して真空容器内に高周波磁界を発生させ、高周波磁界による誘導電界で電子を加速し、真空容器内にプラズマを発生させて、基板を処理するプラズマ処理装置であって、平板状渦形放電コイルを、放電コイル固定用溝を形成したセラミック板上に設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (8件)：

H05H 1/46 M ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 C ,  C23F 4/00 G ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B