特許

J-GLOBAL ID：200903060689454478

処理方法

発明者： 犬島 喬 ,  山崎 舜平
出願人/特許権者： 株式会社半導体エネルギー研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-335041
公開番号（公開出願番号）：特開平7-288242
出願日： 1986年11月10日
公開日（公表日）： 1995年10月31日
要約：

【要約】【目的】 光処理とプラズマ処理を一体として行うこと。【構成】 プラズマ化した酸化物気体を用いてフォトレジストを除去し、その後紫外光によりクリーニングを行う。

請求項（抜粋）：

減圧状態に保持されるプラズマ発生室、該発生室を囲んで設けられた磁場発生手段、前記プラズマ発生室にマイクロ波を供給する手段を有する処理装置内の磁場および電場の共鳴相互作用により生じる共鳴領域で、酸化物気体を導入することによって得られるプラズマ化した酸化物気体を用いてフォトレジストを除去し、その後紫外光を照射することにより、クリーニングを行うことを特徴とする処理方法。

IPC (5件)：

H01L 21/302 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

H01L 21/302 Z ,  H01L 21/30 572 A ,  H01L 21/302 H ,  H01L 21/302 N