特許

J-GLOBAL ID：200903060695219502

Ti-Ni系形状記憶合金とその製造方法

発明者： 梶原 節夫 ,  菊池 武丕児 ,  小川 一行 ,  宮崎 修一 ,  松永 健
出願人/特許権者： 科学技術庁金属材料技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-066820
公開番号（公開出願番号）：特開平9-256086
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：

【要約】【課題】 組成の厳密な制御等を必要とすることなく、簡便に、形状記憶特性を飛躍的に向上させる。【解決手段】 チタン含有量が50〜66原子%の組成で、非晶質合金が600〜850Kの温度で熱処理され、非晶質合金母相に、整合弾性歪を発生させるナノメートルスケールの析出物が生成分布しているTi-Ni系形状記憶合金。

請求項（抜粋）：

チタン含有量が50〜66原子%の組成を有するTi-Ni系形状記憶合金であって、母相に整合弾性歪を発生させるナノメートルスケールの析出物が分布していることを特徴とするTi-Ni系形状記憶合金。

IPC (5件)：

C22C 14/00 ,  C22C 1/00 ,  C22F 1/10 ,  C22F 1/18 ,  C22K 1:00

FI (4件)：

C22C 14/00 Z ,  C22C 1/00 P ,  C22F 1/10 G ,  C22F 1/18 H

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-191757
  
• 形状記憶合金及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-226155   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 強度、制振性、耐放射線、耐食性機能を高めた金属基複合材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-229723   出願人：古屋泰文, 西義武, 増本健