特許

J-GLOBAL ID：200903060696362791

研磨装置

発明者： 田坂 誠均
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 広瀬 章一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-151353
公開番号（公開出願番号）：特開2000-343415
出願日： 1999年05月31日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
要約：

【要約】【課題】 研磨中のシリコンウエハ等の平板状試料の温度を低温かつ均一に保つことが可能な研磨装置を提供する。【解決手段】 平板状試料を保持する試料保持台に、平板状試料の裏面に冷却用の気体-液体ミストを供給するためのノズルを設ける。ノズルの系列を複数とし、それぞれの系列に供給する気体-液体ミストの供給量配分を調整する弁を設けるとなおよい。

請求項（抜粋）：

回転する試料保持台に保持された平板状試料と、該平板状試料と平行に対向配設され回転する研磨定盤に研磨材が被着されてなるポリッシャとの間に、研磨液を供給しながら平板状試料を研磨する研磨装置であって、前記試料保持台に平板状試料の裏面に冷却用の気体-液体ミストを供給するためのノズルが設けられていることを特徴とする研磨装置。

IPC (2件)：

B24B 37/00 ,  H01L 21/304 622

FI (2件)：

B24B 37/00 J ,  H01L 21/304 622 R

Fターム (9件)：

3C058AA09 ,  3C058AB04 ,  3C058AC01 ,  3C058AC04 ,  3C058BA08 ,  3C058BC02 ,  3C058CA02 ,  3C058CB01 ,  3C058DA17