特許
J-GLOBAL ID:200903060705593742

基質を触媒で被覆するシステム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小田島 平吉
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-515075
公開番号(公開出願番号):特表2003-506211
出願日: 2000年07月25日
公開日(公表日): 2003年02月18日
要約:
【要約】触媒組成物を中空基質の内部に塗布する。前記質をコーティングスラリーの浴液が入っている容器の中に浸漬することで前記組成物を前記基質に塗布する。次に、その部分的に浸漬した基質に真空をかける。この真空の強さおよびこれをかける時間は、前記コーティングスラリーが前記浴液から前記中空基質の内部に存在する多数の通路の各々の中に上方に向かって吸い込まれるに充分な強さおよび時間である。前記基質を前記浴液から取り出した後、これを180 ゚回転させる。これに加圧された空気の風を前記コーティングスラリーが前記基質の通路内に分布してその中に均一なコーティングプロファイルが生じるに充分な強さで充分な時間当てる。
請求項(抜粋):
触媒組成物を中空基質の内部に塗布するシステムであって、 基質をコーティングスラリーの浴液が入っている容器の中に浸漬しそしてその部分的に浸漬した基質に真空を前記コーティングスラリーが前記浴液から前記中空基質の内部に存在する多数の通路の各々の中に上方に向かって吸い込まれるに充分な強さで充分な時間かけることで前記基質を前記触媒組成物で被覆し、 前記基質を前記浴液から取り出し、 前記基質を180 ゚回転させ、そして 加圧された空気の風を前記基質に前記コーティングスラリーが前記基質の通路内に分布してその中に均一なコーティングプロファイルが生じるに充分な強さで充分な時間当てる、ことを含んで成るシステム。
IPC (4件):
B05C 3/18 ,  B01J 37/02 301 ,  B05C 13/02 ,  B05D 7/22
FI (4件):
B05C 3/18 ,  B01J 37/02 301 D ,  B05C 13/02 ,  B05D 7/22 Z
Fターム (59件):
4D075AB05 ,  4D075AB34 ,  4D075AB39 ,  4D075AB41 ,  4D075AB52 ,  4D075AB55 ,  4D075AB56 ,  4D075BB14Y ,  4D075BB56Y ,  4D075BB57Y ,  4D075BB92Y ,  4D075BB93Y ,  4D075BB95Y ,  4D075CA47 ,  4D075DA15 ,  4D075DA19 ,  4D075DA21 ,  4D075DB01 ,  4D075DB14 ,  4D075DC13 ,  4D075EA08 ,  4D075EA60 ,  4F040AA04 ,  4F040AA13 ,  4F040AA35 ,  4F040AB20 ,  4F040AC01 ,  4F040BA35 ,  4F040CC05 ,  4F040CC09 ,  4F040CC17 ,  4F040CC20 ,  4F040DA14 ,  4F040DA17 ,  4F040DA18 ,  4F040DB18 ,  4F040DB28 ,  4F042AA03 ,  4F042AA09 ,  4F042AA28 ,  4F042BA06 ,  4F042BA08 ,  4F042BA25 ,  4F042DB31 ,  4F042DD02 ,  4F042DF07 ,  4F042DF25 ,  4F042DF29 ,  4F042DF32 ,  4F042DF34 ,  4G069AA08 ,  4G069EA18 ,  4G069EA19 ,  4G069EB12Y ,  4G069FA03 ,  4G069FB15 ,  4G069FB18 ,  4G069FB20 ,  4G069FB79
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 特開昭61-242643
  • 特開昭51-079692
  • 特開平2-149347
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