特許
J-GLOBAL ID：200903060706198308
ポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-298075
公開番号（公開出願番号）：特開平6-339620
出願日： 1986年10月15日
公開日（公表日）： 1994年12月13日
要約：
【要約】【構成】ポリスルホン系樹脂と親水性高分子を混和溶解した溶液に該ポリスルホン系樹脂に対して非溶媒もしくは膨潤剤なる添加剤を加えた系を製膜原液として製造したポリスルホン系樹脂半透膜に,放射線処理を施すことにより、該親水性高分子を架橋することを特徴とするポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法。【効果】本発明の処理を行なえば、ブレンドした親水性高分子の溶出がなく、透水性の極めて高い半透膜を得ることができる。さらに、常圧で水に浸漬するだけで透水性能を回復するその水濡れ性の良さから完全ドライ膜としての用途に容易に展開できる。また、この効果はほぼ永久的に持続される。
請求項（抜粋）：
ポリスルホン系樹脂と親水性高分子を混和溶解した溶液に該ポリスルホン系樹脂に対して非溶媒もしくは膨潤剤なる添加剤を加えた系を製膜原液として製造したポリスルホン系樹脂半透膜に,放射線処理を施すことにより、該親水性高分子を架橋することを特徴とするポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法。
IPC (3件)：
B01D 71/68
, C08J 7/00 CEZ
, C08J 7/00 305
