特許

J-GLOBAL ID：200903060706733866

光学マスク

発明者： 羽入 勇 ,  浅井 了
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-241796
公開番号（公開出願番号）：特開平6-095354
出願日： 1992年09月10日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：

【要約】【目的】透過光に位相差を与える位相シフタを有し、半導体装置等の製造の際に使用される投影露光装置用の光学マスクに関し、位相シフトを用いる場合に、露光マージンを向上すること。【構成】入射光の位相をシフトしない0°位相シフト透過部5と、 前記入射光の位相を 180°シフトする 180°位相シフト透過部6と、 0°〜 180°の間の位相で前記入射光をシフトさせる中間位相シフト透過部7と、前記中間位相シフト透過部7による位相シフトに対して 180°反転した位相で前記入射光を位相シフトさせる反転中間位相シフト透過部8とを含む。

請求項（抜粋）：

入射光の位相をシフトしない0°位相シフト透過部(5)と、前記入射光の位相を 180°シフトする 180°位相シフト透過部(6)と、0°〜 180°の間の位相で前記入射光をシフトさせる中間位相シフト透過部(7)と、前記中間位相シフト透過部(7)による位相シフトに対して 180°反転した位相で前記入射光を位相シフトさせる反転中間位相シフト透過部(8)とを有することを特徴とする光学マスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027