特許
J-GLOBAL ID：200903060717294970
光誘起によるシリカガラス膜の揮発除去方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
工業技術院電子技術総合研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-197936
公開番号（公開出願番号）：特開平7-024308
出願日： 1993年07月15日
公開日（公表日）： 1995年01月27日
要約：
【要約】【目的】 シリカガラス膜に真空紫外光のような特定波長の光を照射することによりシリカガラスを揮発させる。【構成】 シリコンからなる基板1上に酸素量の少ないシリカガラス膜2を形成し、その一部をマスク3で覆ってからアンジュレーター光4をシリカガラス膜2に照射し、シリカガラス膜2を揮発させて段差を形成する。
請求項（抜粋）：
酸素量不足領域のシリカガラス膜に波長が200〜0.001nm光を照射して前記シリカガラス膜を揮発除去することを特徴とする光誘起によるシリカガラス膜の揮発除去方法。
IPC (2件)：
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