特許
J-GLOBAL ID：200903060728362853
マスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-154865
公開番号（公開出願番号）：特開平5-347242
出願日： 1992年06月15日
公開日（公表日）： 1993年12月27日
要約：
【要約】【目的】荷電ビーム露光を行ない、ガラス基板上の金属膜にパターンを形成する際、モレ電荷がガラス基板端部に蓄積されるのを防ぐ。【構成】ガラス基板の端部の、金属膜が無い部分を導電性を持った金属等で覆う導電性カバーを設ける。これにより、ガラス基板端部のモレ電荷蓄積を防ぐ。
請求項（抜粋）：
荷電ビーム露光を行ないガラス基板上の金属膜にパターンを形成するマスクの製造方法において、前記ガラス基板の端面部分を導電性のある金属等でカバーしてパターンを形成する事を特徴とするマスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 341 P
, H01L 21/30 301 P
