特許
J-GLOBAL ID:200903060736260512

表面評価装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-328965
公開番号(公開出願番号):特開2004-163243
出願日: 2002年11月13日
公開日(公表日): 2004年06月10日
要約:
【課題】試料の形状に応じた形状の照射光を、試料のほぼ全面に、均一に照射させて、高精度かつ信頼性高く、試料表面を評価する表面評価装置を提供。【解決手段】試料3表面にレーザ光1を斜め上方より照射させ、発生した散乱光を、試料3表面の法線方向かつ対向する位置のCCDで検出させる表面評価装置であって、レーザ光を走査させる、2組のガルバノミラー7a、7bからなるX-Yスキャナー、及び中央に楕円形の開口部15を有する、上下左右前後斜めに可変自在の照射光成形板14で構成された照射光成形装置を通過させて、円形シリコンウエハ表面のほぼ全面に、均一な強度のレーザ光を照射させる。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
試料表面に、照射光を斜め上方より照射させる光照射手段と、試料表面に対して法線方向かつ対向する位置に配置された、発生させた散乱光を結像させる結像レンズ及び結像された散乱光を電気信号に変換させるCCDからなる散乱光検出手段と、該CCDからの電気信号を記録させる記録手段とを有する表面評価装置において、試料表面への照射光を成形するための照射光成形装置が備えられていることを特徴とする表面評価装置。
IPC (3件):
G01B11/30 ,  G01N21/88 ,  H01L21/66
FI (4件):
G01B11/30 Z ,  G01N21/88 Z ,  H01L21/66 J ,  H01L21/66 N
Fターム (37件):
2F065AA49 ,  2F065BB01 ,  2F065CC17 ,  2F065CC19 ,  2F065DD04 ,  2F065DD12 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065GG05 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL13 ,  2F065LL24 ,  2F065LL30 ,  2F065LL35 ,  2F065LL62 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ31 ,  2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051BA10 ,  2G051BB01 ,  2G051BB07 ,  2G051BC05 ,  2G051CA04 ,  2G051CA06 ,  2G051CB05 ,  2G051DA05 ,  4M106BA05 ,  4M106CA41 ,  4M106CB21 ,  4M106DB04 ,  4M106DB11 ,  4M106DB13

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