特許

J-GLOBAL ID：200903060738540342

不変のコアクラスでの自動欠陥分類

発明者： ベン ポーラス アリエル ,  ワグナー マーク
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 中村 稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-559420
公開番号（公開出願番号）：特表2002-520591
出願日： 1999年05月18日
公開日（公表日）： 2002年07月09日
要約：

【要約】方法及び装置は、例えば、表面上の欠落パターン(3B)、表面上の余分なパターン(3C)、表面上の変形パターン(3D)、表面上の粒子(3F)、表面内に埋め込まれた粒子(3E)及び表面上の変形パターン(3G)、又は表面上の窪み及び微小引っかき傷の7つのコアクラスの1つに半導体ウェーハの表面上の欠陥を自動的に分類することを供給する。欠陥はまた、ユーザにより定義され、又は、装置にプログラムされた、任意に定義された欠陥の下位クラスにさらに分類されてもよい。例は、複数の角度セクタから放射された電子を収集すことができる走査型電子顕微鏡(SEM)を使用することを含み、欠陥の画像と、地形及び位置情報を含む基準画像を得、その後、この情報を分析し、欠陥を分類する。欠陥が分類されると、数はそれぞれのタイプの欠陥の発生数を維持され、特定のクラスの欠陥数が所定レベルを超えている場合には、警報が起こる。従って、欠陥は正確且つ確実に分類されると共に監視され、処理問題の早期発見及び回復を可能にする。

請求項（抜粋）：

物品の表面の欠陥を自動的に分類する方法であって、 前記表面を映像し、 前記欠陥を所定数の不変のコアクラスの欠陥の1つであるとして分類する、ことを少なくとも含むことを特徴とする方法。

IPC (4件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  G01B 15/00 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/956 A ,  G01B 11/30 A ,  G01B 15/00 B ,  H01L 21/66 J

Fターム (46件)：

2F065AA47 ,  2F065AA49 ,  2F065CC19 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ39 ,  2F065SS02 ,  2F065SS04 ,  2F065SS09 ,  2F065SS13 ,  2F067AA43 ,  2F067AA45 ,  2F067CC17 ,  2F067EE10 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK05 ,  2F067RR35 ,  2F067SS02 ,  2F067SS04 ,  2F067SS13 ,  2G051AA56 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051BA10 ,  2G051BC05 ,  2G051CA07 ,  2G051CD03 ,  2G051EA12 ,  2G051EA30 ,  2G051EB01 ,  2G051EC01 ,  2G051ED07 ,  2G051ED15 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB01 ,  4M106DB18 ,  4M106DB30 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 半導体装置等の製造方法及びその装置並びに検査方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-334606   出願人：株式会社日立製作所
• パタ-ン検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-014922   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平1-301151