特許

J-GLOBAL ID：200903060739582359

アクティブマトリックス基板の製造方法及び製造装置

発明者： 田村 達彦 ,  坪井 伸行
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 村山 光威
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-243325
公開番号（公開出願番号）：特開2001-067017
出願日： 1999年08月30日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：

【要約】【課題】 従来の反射型LCDで問題となっている画素電極での金属光沢的な反射特性をなくし、表示品位を飛躍的に改善するアクティブマトリックス基板の製造方法を提供する。【解決手段】 アクティブ素子2及びアドレス配線3を覆う絶縁膜4上にアクティブ素子に接続する画素電極をマトリックス状に形成する製造工程において、絶縁膜4の形成工程で、感光性樹脂4aを塗布した基板を、形成すべき画素電極の大きさよりも小さい面積の高温部と低温部とが交互に分布するようにして加熱し、樹脂中の溶媒7を蒸発させる。このとき、樹脂表面に凹凸が発生し、この上に形成した画素電極にも凹凸が生じて拡散面となる。

請求項（抜粋）：

絶縁性基板上にアクティブ素子及びアドレス配線を形成する工程と、前記アクティブ素子及びアドレス配線を覆うように絶縁膜を形成する工程と、この絶縁膜に形成した開口部を通して前記アクティブ素子に接続する画素電極をマトリックス状に形成する工程とを有するアクティブマトリックス基板の製造方法であって、前記絶縁膜の形成工程は、前記アクティブ素子及びアドレス配線を覆うように溶媒に希釈された感光性樹脂を塗布する工程と、感光性樹脂を塗布した基板を、形成すべき画素電極の大きさよりも小さい面積の高温部と低温部とが交互に分布するようにして加熱し、溶媒を蒸発させる第1のベーク工程と、溶媒を蒸発させた感光性樹脂を選択的に露光、現像し、開口部を形成する露光・現像工程と、感光性樹脂を硬化させる第2のベーク工程とからなることを特徴とするアクティブマトリックス基板の製造方法。

IPC (2件)：

G09F 9/30 338 ,  G02F 1/136

FI (2件)：

G09F 9/30 338 ,  G02F 1/136

Fターム (21件)：

2H092HA15 ,  2H092HA27 ,  2H092HA28 ,  2H092JA24 ,  2H092JB58 ,  2H092MA29 ,  2H092NA01 ,  2H092NA19 ,  2H092NA25 ,  5C094AA06 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094DA15 ,  5C094EA03 ,  5C094EA04 ,  5C094EA07 ,  5C094FA04 ,  5C094FB01 ,  5C094FB20 ,  5C094GB01