特許
J-GLOBAL ID：200903060744501278
アッシング方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-228534
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086134
出願日： 1993年09月14日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：
【要約】【目的】本発明は、低温で実用レベルのアッシングレートを達成する。【構成】水酸基をもつ有機化合物を貯溜槽(7) に収容し、オゾンを含む酸素ガスと貯溜槽(7) に収容されている有機化合物のガスとを配管系(9,10)により混入し、このガスをチャンバ(1) 内に収納されたレジストの塗布された被処理基板(3)に対して供給する。これにより、被処理基板(3) に塗布されているレジストは、低温でも除去される。
請求項（抜粋）：
オゾンを含む酸素ガスをレジストの塗布された被処理基板に供給して前記レジストを除去するアッシング方法において、前記酸素ガスに対して水酸基をもつ有機化合物のガスを混入させることを特徴とするアッシング方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, H01L 21/3065
H01L 21/30 572 A
, H01L 21/302 H
