特許

J-GLOBAL ID：200903060745123684

プラズマ生成装置およびイオン注入装置

発明者： 佐藤 満雄 ,  矢部 一生 ,  内田 博茂
出願人/特許権者： 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-039224
公開番号（公開出願番号）：特開平10-241589
出願日： 1997年02月24日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】 イオン注入装置のイオン源であるプラズマ生成装置のプラズマ引き出し効率を上げるとともに、両装置のランニングコストを下げる。【解決手段】 装置内にイオンソースガスからプラズマを生成する手段を有し、前記装置のフロント板が前記プラズマを外部に取り出すための開口部を有するプラズマ生成装置において、前記フロント板を複数の板材で構成する。最も内側に配置する板材を耐プラズマ性の高いタングステン等で形成する。さらに、最も内側に配置される板材が有する開口部の垂直開口部の高さを0.3mm未満とし、テーパ開口部の開口角を90度より大きくする。

請求項（抜粋）：

装置内にイオンソースガスからプラズマを生成する手段を有し、前記装置のフロント板が前記プラズマを外部に引き出すための開口部を有するプラズマ生成装置において、前記フロント板が、前記開口部を有する少なくとも2枚以上の板材を有し、内側に配置される板材の開口が、隣接する外側の板材の開口より狭いことを特徴とするプラズマ生成装置。

IPC (3件)：

H01J 27/02 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317

FI (3件)：

H01J 27/02 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317 Z