ガス化学反応の周期的変調を用いたプラズマエッチング方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-509625
公開番号（公開出願番号）：特表2006-523030
出願日： 2004年04月01日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：

【課題】基板上をエッチングマスクを通して層中の形状をエッチングする方法を提供する。【解決手段】ガス変調サイクリックプロセスは3サイクルより多く実行される。それぞれのサイクルは、堆積ガス化学物質を持つ第1ガス化学物質を用いて保護層形成フェーズを実行することを含み、前記保護層形成フェーズはそれぞれのフェーズについて約0.0055から7秒のあいだ実行される。前記保護層形成フェーズを実行することは、前記堆積ガスを提供すること、および前記堆積ガスからプラズマを形成することを含む。それぞれのサイクルは、前記エッチングマスクを通して第2ガス化学物質を用いて反応性エッチングガス化学反応を用いて前記形状をエッチングするためのエッチングフェーズを実行することをさらに含み、前記第1ガス化学物質は前記第2ガス化学物質とは異なり、前記エッチングフェーズはそれぞれのフェーズについて約0.005から14秒のあいだ実行される。それぞれのエッチングフェーズを実行することは、反応性エッチングガスを提供すること、および前記反応性エッチングガスからプラズマを形成することを含む。

請求項（抜粋）：

基板上をエッチングマスクを通して層中の形状をエッチングする方法であって、ガス変調サイクリックプロセスを3サイクルより多く実行することを含み、それぞれのサイクルは、堆積ガス化学物質を持つ第1ガス化学物質を用いて保護層形成フェーズを実行することを含み、前記保護層形成フェーズはそれぞれのフェーズについて約0.0055から7秒のあいだ実行され、前記保護層形成フェーズを実行することは、前記堆積ガスを提供すること、および前記堆積ガスからプラズマを形成することを含み、前記エッチングマスクを通して第2ガス化学物質を用いて反応性エッチングガス化学反応を用いて前記形状をエッチングするためのエッチングフェーズを実行することであって、前記第1ガス化学物質は前記第2ガス化学物質とは異なり、前記エッチングフェーズはそれぞれのフェーズについて約0.005から14秒のあいだ実行され、前記エッチングフェーズを実行することは、反応性エッチングガスを提供すること、および前記反応性エッチングガスからプラズマを形成することを含む方法。

IPC (1件)：

H01L 21/306

FI (1件)：

H01L21/302 101B

Fターム (18件)：

5F004AA05 , 5F004BA09 , 5F004BD04 , 5F004CA02 , 5F004CA03 , 5F004CA04 , 5F004CA06 , 5F004DA00 , 5F004DA03 , 5F004DA15 , 5F004DA16 , 5F004DA23 , 5F004DB01 , 5F004DB03 , 5F004EA13 , 5F004EB01 , 5F004EB03 , 5F004EB04

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-240729
特開平4-240729
プラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-000466 出願人：松下電器産業株式会社

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