多周波弾性表面波フィルタの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-125165
公開番号（公開出願番号）：特開2002-319834
出願日： 2001年04月24日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：

【要約】【課題】圧電基板の性質によらず、またSAWフィルタの周波数帯や仕様に広く対応可能であり、且つ、耐電力性の優れた高品質なIDTを形成することを可能とする多周波弾性表面波フィルタの製造方法を提供する。【解決手段】電極膜厚が相異なる少なくとも2以上の弾性表面波フィルタを単一の圧電基板上に形成する多周波弾性表面波フィルタの製造方法において、前記2以上の弾性表面波フィルタの電極膜厚の少なくとも最大膜厚以上の導電性膜が主面上に形成された圧電基板を準備する工程と、前記2以上の弾性表面波フィルタの所要膜厚となるように前記導電性膜の所要部位の膜厚をエッチングにより調整する工程と、前記異なる膜厚に形成された導電性膜にフォトリソグラフィーを施すことにより各弾性表面波フィルタのインターデジタルトランスデューサを一括形成する工程とを含むことを特徴とする多周波弾性表面波フィルタの製造方法により上記課題を解決する。

請求項（抜粋）：

電極膜厚が相異なる少なくとも2以上の弾性表面波フィルタを単一の圧電基板上に形成する多周波弾性表面波フィルタの製造方法において、前記2以上の弾性表面波フィルタの電極膜厚の少なくとも最大膜厚以上の導電性膜が主面上に形成された圧電基板を準備する工程と、前記2以上の弾性表面波フィルタの所要膜厚となるように前記導電性膜の所要部位の膜厚をエッチングにより調整する工程と、前記異なる膜厚に形成された導電性膜にフォトリソグラフィーを施すことにより各弾性表面波フィルタのインターデジタルトランスデューサを一括形成する工程とを含むことを特徴とする多周波弾性表面波フィルタの製造方法。

Fターム (6件)：

5J097AA26 , 5J097AA29 , 5J097AA32 , 5J097BB14 , 5J097HA02 , 5J097KK09

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