特許

J-GLOBAL ID：200903060788426265

電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物

発明者： 青合 利明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-029752
公開番号（公開出願番号）：特開2002-229193
出願日： 2001年02月06日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
要約：

【要約】【課題】 電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上を目指すものであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)ジスルホン基を有する化合物、(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する、分子量3000以下の低分子溶解阻止化合物、及び(C)アルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)ジスルホン基を有する化合物、(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する、分子量3000以下の低分子溶解阻止化合物、及び(C)アルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  C08F 12/14 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/41 ,  C08L101/00 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  C08F 12/14 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/41 ,  C08L101/00 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (59件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB42 ,  2H025CC20 ,  4J002BC011 ,  4J002BC041 ,  4J002BC121 ,  4J002BE041 ,  4J002BG071 ,  4J002CC031 ,  4J002CC041 ,  4J002CC051 ,  4J002CC071 ,  4J002ED057 ,  4J002EH097 ,  4J002EV216 ,  4J002EX037 ,  4J002FD200 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002GP03 ,  4J100AB00Q ,  4J100AB02Q ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AE09P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AM21P ,  4J100AQ01P ,  4J100AQ01Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05P ,  4J100BA05Q ,  4J100BA10P ,  4J100BA10Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA34P ,  4J100BA37P ,  4J100BA40Q ,  4J100BB01P ,  4J100BB01Q ,  4J100BB03Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC48P ,  4J100BC58P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38