特許

J-GLOBAL ID：200903060793094335

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 村岡 祐介
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-160810
公開番号（公開出願番号）：特開平11-354486
出願日： 1998年06月09日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】 アルコール蒸気による基板の汚染を防止できて、基板を十分に乾燥することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】 基板処理装置1において、処理槽562に貯留される純水L1から複数の基板Wをリフタ563の上昇とともに引き上げる。液面TL1の上方に露出した基板Wに付着する処理液を、凍結用ガス噴射部565から噴射する凍結用ガスFGによって液面TL1の上方部分FRにおいて凍結させ、超音波発振器569によって純水L1を介して基板Wに超音波振動を付与することにより、凍結により氷片P1として基板Wに付着している処理液を脱落させる。また、さらに、昇華用ガス噴射部566は、凍結用ガス噴射部565の上方において、昇華用ガスSGを噴射し、基板Wに残存する氷片P1を部分SRにおいて昇華させる。これによって、基板Wの乾燥処理を十分に行うことができ、また、乾燥処理のためにアルコールを用いる必要がない。

請求項（抜粋）：

基板を所定の処理液に浸漬させた後、基板を処理液から相対的に引き上げて基板を乾燥させる基板処理装置において、所定の処理液を貯留する貯留手段と、その主面が鉛直方向とほぼ平行になるように基板を支持しつつ前記貯留手段に貯留させた貯留処理液中と当該貯留処理液の上方との間で基板を相対的に昇降させる昇降手段と、前記昇降手段により前記貯留処理液の上方に露出した基板の主面に付着する付着処理液を凍結させて凍結処理液とする凍結手段と、前記凍結処理液が付着する基板を振動させる振動付与手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  F26B 5/00

FI (3件)：

H01L 21/304 651 J ,  H01L 21/304 651 L ,  F26B 5/00