特許
J-GLOBAL ID：200903060805012933
サンプリングノズルの洗浄機構
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-098379
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271331
出願日： 1998年03月25日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】【課題】 キャリーオーバーを引き起こす残留物を確実に除去することができるサンプリングノズルの洗浄機構を提供すること。【解決手段】 定量注入用のサンプリングノズル1の先端部3を洗浄ポット5内に挿入した状態で洗浄液を洗浄ポット5内に供給して前記先端部3を洗浄するようにしたサンプリングノズルの洗浄機構において、前記洗浄ポット5の内部に、サンプリングノズル1の先端側の形状に合うような細径部9を形成するとともに、この細径部9内にサンプリングノズル1の先端部3を位置させた状態で、前記細径部9に洗浄液を供給するとともに、細径部9またはこれより低い位置から洗浄液を吸引排出するように構成したことを特徴としている。
請求項（抜粋）：
定量注入用のサンプリングノズルの先端部を洗浄ポット内に挿入した状態で洗浄液を洗浄ポット内に供給して前記先端部を洗浄するようにしたサンプリングノズルの洗浄機構において、前記洗浄ポットの内部に、サンプリングノズルの先端側の形状に合うような細径部を形成するとともに、この細径部にサンプリングノズルの先端部を位置させた状態で、前記細径部に洗浄液を供給するとともに、細径部またはこれより低い位置から洗浄液を吸引排出するように構成したことを特徴とするサンプリングノズルの洗浄機構。
IPC (2件)：
G01N 35/10
, G01N 1/00 101
G01N 35/06 F
, G01N 1/00 101 N
