パターン形成方法、および、このパターン形成方法により製造された電子デバイス、光学素子、光触媒性部材

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小山有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-283886
公開番号（公開出願番号）：特開2002-169303
出願日： 2001年09月18日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：

【要約】【課題】常温処理或いは比較的低温での処理により基板上に直接金属酸化物による微細形状のパターニングを行うことを可能としたパターン形成方法を提供し、また、このパターン形成方法を利用することで、高密度、高集積度の各種電子デバイス、高機能の光学素子、光触媒性部材を安価に市場に提供する。【解決手段】基板上に感光性の疎水基を有する被膜を形成する疎水性被膜形成工程と、該疎水性被膜形成工程により基板上に形成された疎水性被膜に光を照射して親水性のパターンを形成する親水性パターン形成工程を施した後に、パターン解像度を向上させるための金属酸化物析出方法として、特に、該親水性パターンを形成した基板を加水分解性金属酸化物前駆体の雰囲気におくことによる、該親水性パターン上に金属酸化物を析出させる工程からなるようにした。

請求項（抜粋）：

基板上に感光性の疎水基を有する被膜を形成する疎水性被膜形成工程と、該疎水性被膜形成工程により基板上に形成された疎水性被膜に光を照射して親水性のパターンを形成する親水性パターン形成工程と、該親水性パターンを形成した基板を加水分解性金属酸化物前駆体の雰囲気におくことにより、該親水性パターン上に金属酸化物を析出させる金属酸化物析出工程とからなることを特徴とするパターン形成方法。

IPC (7件)：

G03F 7/40 521 , B01J 21/06 , B01J 35/02 , G03F 7/075 501 , H01L 21/027 , H01L 21/312 , H01L 21/316

FI (7件)：

G03F 7/40 521 , B01J 21/06 M , B01J 35/02 J , G03F 7/075 501 , H01L 21/312 D , H01L 21/316 U , H01L 21/30 502 R

Fターム (39件)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AB20 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BF30 , 2H025BH03 , 2H025FA39 , 2H096AA25 , 2H096AA30 , 2H096BA09 , 2H096BA20 , 2H096EA02 , 2H096HA02 , 2H096HA30 , 2H096JA04 , 2H096LA30 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA48A , 4G069DA06 , 4G069EA08 , 4G069EC22Y , 4G069ED02 , 4G069FB39 , 5F058AA07 , 5F058AC03 , 5F058AC07 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F058AH01 , 5F058BA11 , 5F058BC03 , 5F058BF46 , 5F058BH01 , 5F058BH17

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