特許
J-GLOBAL ID：200903060825353583
レーザ及び超音波に基づく材料の分析システム及びその方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 元彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-240199
公開番号（公開出願番号）：特開平8-184581
出願日： 1995年09月19日
公開日（公表日）： 1996年07月16日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】改良された干渉計配備レーザ及び超音波材料分析システムを提供すること。【解決手段】解析すべきターゲット16から干渉計18によって得られたデータポイントを処理する照合フィルタ処理法は、急熱処理サイクルを被るシリコンウエハなどのターゲット内のラムモードを検出して解析するのに特に有効なものとして示される。データポイントを得るために最適な期間の発生を所定の手順により測定するために、ターゲット16を干渉計18にてモニタする方法及び装置が開示される。かかる期間の検出に反応して、インパルスレーザ14などのインパルスソースは、データポイントを獲得するために、ターゲット内に弾性波を放射するためにトリガーされる。このようにして獲得されたデータポイントは、照合フィルタ法などによって連続的に処理される。
請求項（抜粋）：
ソースビームを発するレーザと、前記ソースビームを基準ビームとプローブビームとに分岐する手段であって、前記プローブビームに対する前記基準ビームの相対強度は前記ソースビームの偏光状態に依存している手段と、基準ビーム光路を画定する手段と、前記プローブビームをサンプルの表面に向けさせ且つ前記サンプルから反射される前記プローブビームの一部を受光する手段と、合成ビームを形成するために前記基準ビームを前記プローブビームの前記受光されたものと合成する手段と、前記基準ビームによって生じた干渉パターンを検出し且つ前記合成ビーム内で前記プローブビームの前記戻りビームと干渉せしめる手段と、前記検出干渉パターンに反応して、前記ソースビームの偏光状態を自動的に変化せしめて前記干渉パターンの検出を強化する手段とを有することを特徴とする干渉計。
IPC (2件)：
G01N 29/00 501
, G01N 21/45
