特許
J-GLOBAL ID：200903060830616118
無電解ニツケルめつき皮膜用研磨液の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-224943
公開番号（公開出願番号）：特開平5-043868
出願日： 1991年08月09日
公開日（公表日）： 1993年02月23日
要約：
【要約】【構成】 アルミナを水に分散し、硫酸でpH2.8以下に調整したアルミナ分散液にコロイダルシリカを添加し、次いで炭酸ニッケルを添加してpH5〜7に調整することを特徴とする無電解ニッケルめっき皮膜用研磨液の製造方法を提供する。【効果】 本発明の研磨液の製造方法によれば、アルミナの分散安全性に優れ、長期間保存後においても良好な研磨効果を有する研磨液を得ることができるものであり、この研磨液はハードディスクなどに形成した無電解ニッケルめっき皮膜、特にNi-P皮膜の研磨に使用されるものである。
請求項（抜粋）：
アルミナを水に分散し、硫酸でpH2.8以下に調整したアルミナ分散液にコロイダルシリカを添加し、次いで炭酸ニッケルを添加してpH5〜7に調整することを特徴とする無電解ニッケルめっき皮膜用研磨液の製造方法。
IPC (3件)：
C09K 3/14
, B24B 37/00
, C23C 18/32
