特許

J-GLOBAL ID：200903060841414843

メルカプト基を有するケイ素化合物の製造方法

発明者： 金子 哲也 ,  金子 彰
出願人/特許権者： 日本曹達株式会社
代理人 (1件)： 東海 裕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-051845
公開番号（公開出願番号）：特開2002-255976
出願日： 2001年02月27日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】減圧蒸留等の精製時の分解を抑制し、式(I)(式中、X1〜X3は、それぞれ同一または相異なっていてもよく、水素または一価の基であって、少なくとも一つは加水分解性基を表し、R1は単結合または二価の有機基を表す。)で表される化合物を高収率で得ることができ、しかも処理困難な蒸留残渣の生成量を著しく減少することができる工業的な製造方法を提供すること。【解決手段】反応によって得られる式(I)を含む反応液を無水鉱酸および/または有機酸で処理してpH7以下に調整した後に、精製工程を行う。【化1】

請求項（抜粋）：

式(I)【化1】(式中、X1〜X3は、それぞれ同一または相異なっていてもよく、水素または一価の基であって、少なくとも一つは加水分解性基を表し、R1は単結合または二価の有機基を表す。)で表されるケイ素化合物の製造方法において、反応によって得られる式(I)を含む反応液を無水鉱酸および/または有機酸で処理してpH7以下に調整した後に、精製工程を行うことを特徴とする製造方法。

Fターム (13件)：

4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ48 ,  4H049VR21 ,  4H049VR43 ,  4H049VS21 ,  4H049VT34 ,  4H049VT36 ,  4H049VT37 ,  4H049VT40 ,  4H049VW02 ,  4H049VW04 ,  4H049VW05

引用特許：

審査官引用 (2件)

• メルカプトプロピルシラン化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-097119   出願人：信越化学工業株式会社
• 3-メルカプトプロピルアルコキシシランの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-309895   出願人：信越化学工業株式会社