特許
J-GLOBAL ID:200903060848507146

窒化アルミニウム系セラミックス基板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 須山 佐一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-214130
公開番号(公開出願番号):特開平6-164081
出願日: 1984年09月30日
公開日(公表日): 1994年06月10日
要約:
【要約】【目的】 最適な表面状態を有する窒化アルミニウム系セラミックス基板を提供する。【構成】 主として窒化アルミニウムで形成されている銅薄膜の形成されるセラミックス基板であって、表面あらさがRmax ≦2.0 μm である最適な表面状態を有する窒化アルミニウム系セラミックス基板である。
請求項(抜粋):
主として窒化アルミニウムで形成されている銅薄膜の形成されるセラミックス基板であって、表面あらさがRmax ≦2.0μm であることを特徴とする窒化アルミニウム系セラミックス基板。
IPC (2件):
H05K 1/03 ,  H01L 23/15

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