特許
J-GLOBAL ID：200903060860898398
シールドトンネル工法および充填材
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-342511
公開番号（公開出願番号）：特開2003-138877
出願日： 2001年11月07日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
要約：
【要約】【課題】 シールドトンネル工法において余掘り部の地山保持を合理的に行う。【解決手段】 シールド機の旋回部あるいはトンネル断面変更部において通常断面よりも大断面の余掘りを行うに際し、流動性を有しかつ地山への非浸透性を有するゲル状の充填材5を余掘り部Aに充填して地山を保持しつつ余掘り部を掘進し、シールド機1が余掘り部を通過した後に、裏込め材3を充填して充填材を回収し裏込め材を硬化させる。トンネル断面拡大部や縮小部にも同様に適用する。充填材は、ベントナイトと水およびポリアクリルアミド系高分子凝集材とをゲル状を呈するように配合したものであり、それらの配合比をそれぞれ77.1〜85.0重量%、14.7〜21.9重量%、0.1〜1.4重量%の範囲内に設定する。
請求項（抜粋）：
シールド機の旋回部あるいはトンネル断面変更部において通常断面よりも大断面の余掘りを行うに際し、流動性を有しかつ地山への非浸透性を有するゲル状の充填材を余掘り部に充填して地山を保持しつつ余掘り部を掘進し、シールド機が余掘り部を通過した後に裏込め材を充填することにより充填材を回収し、充填された裏込め材を硬化させることを特徴とするシールドトンネル工法。
IPC (6件)：
E21D 9/06 301
, C09K 17/02
, C09K 17/20
, C09K 17/40
, E21D 11/00
, C09K103:00
E21D 9/06 301 H
, C09K 17/02 P
, C09K 17/20 P
, C09K 17/40 P
, E21D 11/00 A
, C09K103:00
2D054AA02
, 2D054AA05
, 2D054AC01
, 2D054AD22
, 2D054FA02
, 2D055BA01
, 2D055JA00
, 2D055JA05
, 2D055KB11
, 4H026CA06
, 4H026CB08
, 4H026CC03
