特許

J-GLOBAL ID：200903060863221992

位相シフトレチクルおよびその製造方法

発明者： 山中 幸治
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-314472
公開番号（公開出願番号）：特開平5-297569
出願日： 1992年11月25日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：

【要約】【目的】隣接する開口部分を透過する光に位相差を与える位相シフトレチクルにおいて、同一光透過部内の位相の乱れを最小限にする。【構成】ガラス基板1,導電性膜2の上にクロム膜3で遮光体パターンを形成し、その上の全面に平坦化膜4を形成する。さらにその上に所望のパターンのシフター6を形成する。

請求項（抜粋）：

隣接する開口部分を透過する光に位相差を与える位相シフトレチクルにおいて、ガラス基板上に形成された遮光体パターンと、該遮光体パターンを含む該ガラス基板上の全面に形成された表面が平坦化される平坦化膜と、該平坦化膜の平坦化された表面上に形成された位相差を与える位相差材パターンとを有することを特徴とする位相シフトレチクル。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-259147
  
• 特開平2-078216
  
• 特開平3-097247
  
• 特開平4-204735