特許

J-GLOBAL ID：200903060864223581

レーザアニール装置

発明者： 山本 貴史
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 早瀬 憲一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-166819
公開番号（公開出願番号）：特開2002-359208
出願日： 2001年06月01日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：

【要約】【課題】 構成が簡素で、かつ、光軸調整が容易なレーザアニール装置を提供することを目的とする。【解決手段】 レーザ装置11より放射されたレーザビーム12を集光する第1のレンズ13と、1つの多モード光ファイバよりなる光ファイバ14と、光ファイバ14より出射されるレーザビーム12を所定の大きさに拡大する第2のレンズ15と、入射面と出射面とを有する複数の多モード光ファイバよりなる光ファイババンドル16と、光ファイババンドル16より出射されたレーザビーム12を短軸方向のみにおいて集光して出射するシリンドリカルレンズ18と、を備えた。

請求項（抜粋）：

レーザビームを放射するレーザ装置と、上記レーザービームを整形して基板上に照射し、多結晶シリコン薄膜を形成するレーザビーム整形装置と、からなるレーザアニール装置であって、上記レーザビーム整形装置は、1つの多モード光ファイバよりなる光ファイバと、入射面と、出射面とを有する、複数の多モード光ファイバよりなる光ファイババンドルと、を備えた、ことを特徴とするレーザアニール装置。

IPC (4件)：

H01L 21/268 ,  G02F 1/1368 ,  H01L 21/20 ,  H01S 3/00

FI (4件)：

H01L 21/268 J ,  G02F 1/1368 ,  H01L 21/20 ,  H01S 3/00 A

Fターム (14件)：

2H092KA04 ,  2H092MA26 ,  2H092MA30 ,  2H092MA35 ,  5F052AA02 ,  5F052BA00 ,  5F052BA14 ,  5F052BB07 ,  5F052JA01 ,  5F072AA06 ,  5F072JJ05 ,  5F072MM08 ,  5F072SS02 ,  5F072YY08