特許

J-GLOBAL ID：200903060869590930

酸化物の処理方法

発明者： 原 昌輝 ,  鈴木 俊治
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 杉浦 正知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-241170
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064839
出願日： 1996年08月23日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】 低温かつ短時間で酸化物の質を改善することができる酸化物の処理方法を提供する。【解決手段】 酸素を構成原子の一つとするガス、例えばO2 ガスを用いて得られるO2 クラスターイオンビーム5を例えば400°CでTa2 O5 膜2に照射した後、例えば400°CでO2 ガス雰囲気中において熱処理する。あるいは、例えば400°Cで、O2 クラスターイオンビーム5をTa2 O5 膜2に照射すると同時に、紫外線をそのTa2 O5 膜2に照射する。O2 クラスターイオンビーム5の代わりに、イオン注入装置において発生されるO+ イオンビームを用いてもよい。

請求項（抜粋）：

酸素を構成原子の一つとするガスを用いて得られるイオンビームを酸化物に照射するようにしたことを特徴とする酸化物の処理方法。

IPC (5件)：

H01L 21/265 ,  H01L 21/26 ,  H01L 21/316 ,  H01L 27/04 ,  H01L 21/822

FI (5件)：

H01L 21/265 Y ,  H01L 21/316 P ,  H01L 21/26 L ,  H01L 21/265 Q ,  H01L 27/04 C