特許
J-GLOBAL ID：200903060878513566
液晶表示装置用アクティブ基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-260470
公開番号（公開出願番号）：特開平10-104665
出願日： 1996年10月01日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：
【要約】【課題】 櫛歯型電極を利用し視野角依存性を改善する手段を2端子型非線形抵抗素子に採用する場合に、電気的短絡を防止する。【解決手段】 基板上に第1の櫛歯電極12と第1の配線電極と第1の電極13を形成し、第1の櫛歯電極に接続する第1の配線電極と第1の電極上に第1の非線形抵抗層15を形成し、第1の電極上の第1の非線形抵抗層上にフォトレジストを形成し、基板上の全面に第2の非線形抵抗層を形成し、第1の電極上のフォトレジストを第2の非線形抵抗層とともにリフトオフし、第1電極に第1の非線形抵抗層を介して接続する第2の電極と第2の電極に接続しかつ第1の櫛歯電極に近接する第2の櫛歯電極と、第1の電極に第1の非線形抵抗層を介して接続する第3の電極と第3の電極に接続しかつ第1の配線電極と第2の非線形抵抗層を介して交差する第4の電極からなる第2の配線電極とを形成する。
請求項（抜粋）：
基板上に第1の櫛歯電極と第1の櫛歯電極に接続する第1の配線電極と島状の第1の電極とを第1のフォトレジストをエッチングマスクにしてパターン形成する工程と、基板上の全面に第1の非線形抵抗層を形成する工程と、第1の配線電極上に第2の非線形抵抗層を第2のフォトレジストをエッチングマスクにしてパターン形成する工程と、第1の電極に第1の非線形抵抗層を介して接続する第2の電極と第2の電極に接続しかつ第1の櫛歯電極に近接する第2の櫛歯電極と、第1の電極に第1の非線形抵抗層を介して接続する第3の電極と第3の電極に接続しかつ第1の配線電極と第2の非線形抵抗層を介して交差する第2の配線電極とを第3のフォトレジストをエッチングマスクにしてパターン形成する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置用アクティブ基板の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/136 510
, G02F 1/1343
G02F 1/136 510
, G02F 1/1343
