特許

J-GLOBAL ID：200903060880715729

異物除去方法及び異物除去装置

発明者： 岡田 政志
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-005115
公開番号（公開出願番号）：特開2000-202384
出願日： 1999年01月12日
公開日（公表日）： 2000年07月25日
要約：

【要約】【課題】洗浄中は異物の除去が行われたかどうか確認できないため、洗浄工程の後に、洗浄が確実に行われたか否かを検査する工程が必要になる。一度の洗浄工程で除去できなかった場合には、さらに洗浄工程と検査工程を行わなければならず、生産性が低下しコストが高くなるという欠点があった。【解決手段】異物の付着した被処理材に対してパルスレーザー光を照射し、異物を除去する異物除去方法において、前記被処理材の表面の観察を行いながら、パルスレーザー光を照射することを特徴とする異物除去方法。

請求項（抜粋）：

異物の付着した被処理材に対してパルスレーザー光を照射し、異物を除去する異物除去方法において、前記被処理材の表面の観察を行いながら、パルスレーザー光を照射することを特徴とする異物除去方法。

IPC (3件)：

B08B 7/00 ,  B23K 26/02 ,  H01J 37/28

FI (3件)：

B08B 7/00 ,  B23K 26/02 C ,  H01J 37/28 B

Fターム (12件)：

3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB42 ,  3B116BC01 ,  3B116CC05 ,  4E068AH00 ,  4E068CA03 ,  4E068CA17 ,  4E068CC02 ,  4E068DA11 ,  5C033UU03 ,  5C033UU06