特許
J-GLOBAL ID:200903060883219773

溶銑の予備処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 内藤 俊太 ,  田中 久喬
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-360566
公開番号(公開出願番号):特開2004-190101
出願日: 2002年12月12日
公開日(公表日): 2004年07月08日
要約:
【課題】溶銑予備処理・脱炭工程ともに蛍石を使用しない精錬を可能にし、脱P工程、脱炭工程での脱P用スラグの形成を最小限にし、溶銑中に加炭材を効率よく添加して熱裕度の向上を図る溶銑予備処理方法及び精錬方法を提供する。【解決手段】上底吹き可能な精錬容器を用い、上吹きランスからの酸素供給による脱Si処理時に同時に底吹きノズルから加炭材供給を行い、その後精錬容器からの中間排滓を行い、引き続き上吹きランスからの酸素供給による脱P処理と同時に底吹きノズルから脱Pフラックス供給を行うことを特徴とする溶銑予備処理方法。中間排滓前の溶銑中Si濃度が0.05質量%以上である。脱P処理完了後にスラグを精錬容器内に残し、次に溶銑予備処理を行う溶銑を精錬容器に装入する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
上底吹き可能な精錬容器を用い、上吹きランスからの酸素供給による脱Si処理時に同時に底吹きノズルから加炭材供給を行い、その後精錬容器からの中間排滓を行い、引き続き上吹きランスからの酸素供給による脱P処理と同時に底吹きノズルから脱Pフラックス供給を行うことを特徴とする溶銑予備処理方法。
IPC (2件):
C21C1/04 ,  C21C1/02
FI (2件):
C21C1/04 101 ,  C21C1/02 110
Fターム (9件):
4K014AA01 ,  4K014AA03 ,  4K014AB03 ,  4K014AB04 ,  4K014AB12 ,  4K014AC04 ,  4K014AC14 ,  4K014AC16 ,  4K014AD00

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